特許
J-GLOBAL ID:200903012131254796

p-ヒドロキシ安息香酸の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-239493
公開番号(公開出願番号):特開平10-087559
出願日: 1996年09月10日
公開日(公表日): 1998年04月07日
要約:
【要約】【課題】非プロトン性極性溶媒中でもp-ヒドロキ安息香酸の選択率が高いDMSO中でのフェノールのアルカリ金属塩と二酸化炭素の反応において、p-ヒドロキシ安息香酸の選択性を生かしつつ、その収率を33%以上に向上させる。【解決手段】ジメチルスルホキシド、フェノール、フェノールに対し0.9〜1.1モル倍の水酸化ナトリウムあるいはその水溶液を混合した後、蒸留により水を除去し、フェノールのアルカリ金属塩1モルとDMSO2モルから成る錯体を生成させ、これに90°C以下の温度で二酸化炭素を反応させて、p-ヒドロキシ安息香酸を製造する方法において、原料錯体に二酸化炭素を十分反応させた後、二酸化炭素を系外に除去した状態で90〜120°Cの温度範囲で加熱処理し、再び二酸化炭素を導入して90°C以下で反応させる。
請求項(抜粋):
ジメチルスルホキシド、フェノール、およびフェノールに対し0.9〜1.1モル倍の水酸化ナトリウムあるいはその水溶液を混合した後、蒸留により水を除去し、フェノールのアルカリ金属塩1モルとジメチルスルホキシド2モルから成る錯体を生成させ、これに90°C以下の温度で二酸化炭素を反応させてp-ヒドロキシ安息香酸を製造する際に、原料錯体に二酸化炭素を十分反応させた後、二酸化炭素を系外に除去した状態で90〜120°Cの温度範囲で加熱処理し、再び二酸化炭素を導入して90°C以下で反応させることを特徴とするp-ヒドロキシ安息香酸の製造方法。
IPC (6件):
C07C 65/03 ,  B01J 31/22 ,  C07C 51/15 ,  C07B 61/00 300 ,  C07F 1/04 ,  C07F 1/06
FI (6件):
C07C 65/03 A ,  B01J 31/22 Z ,  C07C 51/15 ,  C07B 61/00 300 ,  C07F 1/04 ,  C07F 1/06

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