特許
J-GLOBAL ID：200903012138733452
2-フェニルベンゾトリアゾール類の製造法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
友松 英爾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-328644
公開番号（公開出願番号）：特開2000-154180
出願日： 1998年11月18日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】【課題】 酸性条件下で水素による還元反応を行う新規な2-フェニルベンゾトリアゾールの製法の提供と、酸性物質の存在下、安価でクリーンな水素による還元反応を行うことにより、副反応や脱塩素化がほとんどなく、目的生成物である2-フェニルベンゾトリアゾール類を分離、精製しやすく、かつ収率や生産性の高い新規な2-フェニルベンゾトリアゾールの製法の提供。【解決手段】 一般式II【化1】で示される2-フェニルベンゾトリアゾール-N-オキシド類を酸性条件に、水および有機溶媒からなる群から選ばれた少なくとも1種の溶媒中で水素添加触媒の存在下、水素により還元することを特徴とする前記一般式Iで示される2-フェニルベンゾトリアゾール類の製造法。
請求項（抜粋）：
一般式I【化1】〔式中R1は、水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カルボキシル基およびスルホン酸基よりなる群から選ばれた基であり、R2は、水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基および炭素数1〜4の低級アルコキシル基よりなる群から選ばれた基であり、R3は、水素原子、塩素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基、アルキル部分の炭素数1〜4のフェニルアルキル基、および式-CnH2n-COOR6(式中、nは0〜4を表わし、R6は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)よりなる群から選ばれた基であり、R4は、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基および炭素数1〜4のアルコキシル基よりなる群から選ばれた基であり、R5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基およびアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基よりなる群から選ばれた基である。〕で示される2-フェニルベンゾトリアゾール類を製造するに際して、一般式II【化2】〔式中R1は、水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カルボキシル基およびスルホン酸基よりなる群から選ばれた基であり、R2は、水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基および炭素数1〜4の低級アルコキシル基よりなる群から選ばれた基であり、R3は、水素原子、塩素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基、アルキル部分の炭素数1〜4のフェニルアルキル基、および式-CnH2n-COOR6(式中、nは0〜4を表わし、R6は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)よりなる群から選ばれた基であり、R4は、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基および炭素数1〜4のアルコキシル基よりなる群から選ばれた基であり、R5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基およびアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基よりなる群から選ばれた基である。〕で示される2-フェニルベンゾトリアゾール-N-オキシド類を酸性条件に、水および有機溶媒からなる群から選ばれた少なくとも1種の溶媒中で水素添加触媒の存在下、水素により還元することを特徴とする前記一般式Iで示される2-フェニルベンゾトリアゾール類の製造法。
IPC (4件)：
C07D249/20 502
, C07D249/20 504
, B01J 23/40
, C07B 61/00 300
C07D249/20 502
, C07D249/20 504
, B01J 23/40 X
, C07B 61/00 300
