特許

J-GLOBAL ID：200903012143134184

基板の研磨装置

発明者： 廣川 一人 ,  桧山 浩國 ,  和田 雄高 ,  松尾 尚典
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-096883
公開番号（公開出願番号）：特開平11-277411
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 砥石の研磨面上に、水又は溶液が水滴状とならずに、連続的に微量供給させることができる基板の研磨装置を提供する。【解決手段】 砥石15と基板4とを摺動させることで基板4の被研磨面を平坦且つ鏡面状に研磨する基板の研磨装置において、砥石15の研磨面又は基板の被研磨面上に水又は溶液を供給するノズル10を備え、該ノズル10の先端位置を該ノズル10の先端と砥石15の研磨面又は基板4の被研磨面との間に液滴が形成されない程度に近く配置するようにした。

請求項（抜粋）：

砥石と基板とを摺動させることで前記基板の被研磨面を平坦且つ鏡面状に研磨する基板の研磨装置において、前記砥石の研磨面又は基板の被研磨面上に水又は溶液を供給するノズルを備え、該ノズルの先端位置を該ノズルの先端と前記砥石の研磨面又は基板の被研磨面との間に液滴が形成されない程度に近く配置するようにしたことを特徴とする基板の研磨装置。