電子線描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-243872
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082426
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】電子線の照射位置ドリフトを迅速、高精度に補正することのできる電子線描画装置を提供する。【構成】試料台上の基準マ-ク検出により得られる電子ビ-ムの位置ドリフト(位置誤差)を記憶し、複数の上記位置ドリフト値を用いて上記電子ビ-ム位置のドリフト特性式を算出して電子ビ-ムの偏向信号を補正する。また、上記ドリフト特性式を最小自乗法により折れ線、または2次以上の代数方程式に近似し、描画工程毎に検出される上記位置ドリフト値を用いて上記ドリフト特性式の確度を逐次高める。また、上記基準マ-クの検出時刻間隔を、上記ドリフト特性式の勾配に逆比例して設定し、また、上記ドリフト特性式による電子ビ-ムの偏向量補正をブランキング期間に行う。

請求項（抜粋）：

電子ビ-ムの照射により試料上に所定のパタ-ンを描画する電子線描画装置において、試料台上の基準マ-クに上記電子ビ-ムを照射して得られる反射電子信号により上記電子ビ-ムの位置ドリフト(位置誤差)を検出する手段と、複数の上記電子ビ-ムの位置ドリフト値を記憶するメモリと、上記メモリが記憶する複数の上記電子ビ-ムの位置ドリフト値を用いて上記電子ビ-ムの位置ドリフトの径時変化特性式(ドリフト特性式)を算出するドリフト特性演算手段と、上記ドリフト特性式により上記電子ビ-ムの偏向信号を補正する手段とを備えたことを特徴とする電子線描画装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 341 J , H01L 21/30 341 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-308317
特開平3-114125
特開平1-286420

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