特許
J-GLOBAL ID：200903012159162340
リソグラフィー用ペリクル膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027998
公開番号（公開出願番号）：特開平5-224400
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【構成】 下記一般式化1で表わされるフマル酸ジエステル単位を含む重合体からなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル膜。【化1】【効果】 本発明のペリクル膜は、均一な薄膜であり、波長250nmまでの可視光及び紫外光領域において極めて良好な透過性を有しており、g線(波長436nm)、i線(波長365nm)等のマイクロリソグラフィー用光源及びエキシマレーザー等の短波長光源に対応できる。しかも本発明のペリクル膜は耐溶剤性に優れているので、表面の埃を除去するためのメタノール洗浄に対しても十分な耐性を有しているため繰返し使用することが可能である。
請求項（抜粋）：
下記一般式化1で表わされるフマル酸ジエステル単位を含む重合体からなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル膜。【化1】
IPC (3件)：
G03F 1/14
, C08F222/14 MMH
, H01L 21/027
