特許
J-GLOBAL ID：200903012168947651
ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-310179
公開番号（公開出願番号）：特開平9-152715
出願日： 1995年11月29日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高感度、高解像度でかつ高耐熱性のポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及び解像度の良好なレジストパターンを現出することができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)一般式(I)で表されるポリフェノール化合物あるいは一般式(II)で表されるポリフェノール化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物並びにこのポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、ついで現像するレジスト像の製造法。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)一般式(I)【化1】(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素、炭素数1〜4のアルキル基、アリール基またはフェノール性水酸基を有するアリール基を示し、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を示し、f及びgはそれぞれ独立に0、1または2であり、h及びiはそれぞれ独立に1、2または3である)で表されるポリフェノール化合物あるいは一般式(II)【化2】(式中、R5及びR6はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を示し、j及びkはそれぞれ独立に0、1または2であり、l及びmはそれぞれ独立に1、2または3である)で表されるポリフェノール化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, G03F 7/30
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, G03F 7/30
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 F
