特許

J-GLOBAL ID：200903012181126519

スズ-銅合金メッキ浴

発明者： 青木 和博 ,  武内 孝夫 ,  縄舟 秀美 ,  水本 省三 ,  池田 一輝 ,  芝 一博
出願人/特許権者： 石原薬品株式会社 ,  株式会社大和化成研究所
代理人 (1件)： 豊永 博隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-227232
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049486
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 Sn/Cu皮膜組成比に対する電流密度依存性が低く、メッキ皮膜の外観や緻密性に優れるスズ-銅合金メッキ浴を開発する。【解決手段】 (A)可溶性第一スズ塩、(B)可溶性銅塩、(C)有機スルホン酸などの有機酸、或は硫酸などの無機酸、(D)ジチオジアニリン、(E)C1〜C20アルカノール、フェノール、ナフトール、C1〜C22脂肪族アミンなどのエチレンオキシド及び/又はプロピレンオキシドの付加物であるノニオン系界面活性剤を含有するスズ-銅合金メッキ浴である。スズ-銅合金メッキ浴にジチオジアニリンと特定のノニオン系界面活性剤を併用するため、電流密度依存性の小さいスズ-銅合金皮膜を得ることができ、低電流密度から高電流密度までの広い領域でSn/Cu皮膜組成比を安定にできる。

請求項（抜粋）：

(A)可溶性第一スズ塩、(B)可溶性銅塩、(C)有機スルホン酸、脂肪族カルボン酸などの有機酸、或は、硫酸、塩酸、ホウフッ化水素酸などの無機酸、(D)ジチオジアニリン、(E)C1〜C20アルカノール、フェノール、ナフトール、ビスフェノール類、C1〜C25アルキルフェノール、アリールアルキルフェノール、C1〜C25アルキルナフトール、C1〜C25アルコキシル化リン酸、ソルビタンエステル、ポリアルキレングリコール、C1〜C22脂肪族アミン、C1〜C22脂肪族アミドなどのエチレンオキシド及び/又はプロピレンオキシドの付加物であるノニオン系界面活性剤を含有してなることを特徴とするスズ-銅合金メッキ浴。

Fターム (10件)：

4K023AB34 ,  4K023BA06 ,  4K023BA29 ,  4K023CB03 ,  4K023CB13 ,  4K023CB32 ,  4K023CB33 ,  4K023DA06 ,  4K023DA07 ,  4K023DA11

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 金属を還元析出させるための水溶液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-198763   出願人：株式会社大和化成研究所
• 錫-銀合金酸性電気めっき浴
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-007555   出願人：ディップソール株式会社
• 低融点錫合金めっき浴
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-167489   出願人：荏原ユージライト株式会社
• スズ及びスズ合金メッキ浴、当該メッキ浴の管理方法及び調製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-336392   出願人：石原薬品株式会社, 株式会社大和化成研究所
• 銀および銀合金めっき浴
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-319740   出願人：荏原ユージライト株式会社