特許
J-GLOBAL ID：200903012186923484
マイクロ波を用いたZSM-5膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-248311
公開番号（公開出願番号）：特開2002-058973
出願日： 2000年08月18日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：
【要約】【課題】 多孔質支持体上に膜厚が均一で膜にピンホールのない緻密なZSM-5型ゼオライト膜を短時間に効率良く製造する方法を提供する。【解決手段】 多孔質支持体の存在下に、H2O、NaOH、SiO2、Al2O3、及びテトラプロピルアンモニウムハロゲン化物(TPAX)からなるゼオライト反応原料混合物を加熱して水熱合成反応させ、前記支持体上にゼオライト膜を析出させるゼオライト膜の製造方法において、前記ゼオライト反応原料混合物のモル組成比をH2O/SiO2=20〜100、SiO2/Al2O3=110以上とし、加熱をマイクロ波による加熱とする。
請求項（抜粋）：
多孔質支持体の存在下に、H2O、NaOH、SiO2、Al2O3、及びテトラプロピルアンモニウムハロゲン化物(TPAX)からなるゼオライト反応原料混合物を加熱して水熱合成反応させ、前記支持体上にゼオライト膜を析出させるゼオライト膜の製造方法において、前記ゼオライト反応原料混合物のモル組成比がH2O/SiO2=20〜100、SiO2/Al2O3=110以上であり、加熱がマイクロ波による加熱であることを特徴とするZSM-5型ゼオライト膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
4D006GA25
, 4D006MB11
, 4D006MB15
, 4D006MB16
, 4D006MC03X
, 4D006NA46
, 4D006NA62
, 4G073BD18
, 4G073CZ13
, 4G073FB11
, 4G073FB21
