特許

J-GLOBAL ID：200903012188835582

光学素子の製造方法及びそれに用いる製造装置

発明者： 近藤 隆久 ,  嶋崎 智章 ,  清水 義之
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (11件)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-072385
公開番号（公開出願番号）：特開2007-246339
出願日： 2006年03月16日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：

【課題】素子表面の曇り及び揮発物の付着が抑制された光学素子を容易に製造することができる方法を提供する。【解決手段】配置工程、加熱工程、及び成形工程のうち少なくとも加熱工程を、チャンバ10内の雰囲気の酸素濃度を大気の酸素濃度よりも低く保ち、且つキャビティC内の雰囲気の酸素濃度をチャンバ10内の雰囲気の酸素濃度よりも低く保つと共にキャビティCをチャンバ10に対して陽圧とした状態で行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

上型と、該上型に対向配置された下型と、該上型と該下型とが摺動可能に挿入され、該上型と該下型と共に光学素子を成形するためのキャビティを区画形成する筒状の胴型とを備えた成形型組と、該成形型組が設置されたチャンバとを備えた製造装置を用いて光学素子を製造する方法であって、 上記キャビティ内にガラス材を配置する配置工程と、 上記配置されたガラス材を加熱する加熱工程と、 上記加熱されたガラス材を上記上型と上記下型とでもってプレスして光学素子を成形する成形工程と、 を備え、 上記3つの工程のうち少なくとも加熱工程を、上記チャンバ内の雰囲気の酸素濃度を大気の酸素濃度よりも低く保ち、且つ上記キャビティ内の雰囲気の酸素濃度を上記チャンバ内の雰囲気の酸素濃度よりも低く保つと共に上記キャビティを上記チャンバに対して陽圧とした状態で行うことを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (1件)：

C03B 11/00

FI (1件)：

C03B11/00 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭62-292630号公報
  
• 特開昭62-297224号公報