有害物質還元処理方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鎌田文二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-185283
公開番号（公開出願番号）：特開2003-001064
出願日： 2001年06月19日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】【課題】有害物質を含む排気ガスを処理するため、放電プラズマを利用して有害物質を分解するだけでなく、放電プラズマからの紫外光を利用して水素を安価なコストで発生させ、その水素の強力な還元力を併用して排気ガスに含まれる有害物質の還元処理を可能とする方法及び装置を得る。【解決手段】有害物質還元処理装置Aは、ケーシング1に排気管2が接続され、ケーシング1の片側に高圧電極3と反対側に水素発生手段4を対向して設け、高圧電極3からの放電により放電プラズマを生じさせ、放電プラズマからの紫外光を水素発生手段4に照射し、水素発生手段4は半導体電極41と金属電極42をゲル材45を介して電解質容器に接して設け、上記紫外光を半導体電極で吸収して金属電極42側から水素を放出し、水素と電子により反応領域で有害物質を還元処理するように構成している。

請求項（抜粋）：

電極に高電圧を印加して発生する電子を排気ガスを含む気体中に放電して放電プラズマを生じさせ、紫外光が照射されるとその紫外光を吸収して電解質溶液を分解し水素を発生する水素発生手段に放電プラズマからの紫外光を照射して水素を発生させ、発生した水素を上記気体の反応領域に放出して電子と衝突させることによりラジカル化又はイオン化し、上記電子と水素を排気ガスを含む気体の反応領域で排気ガス中の有害物質に作用させて有害物質を分解し、還元処理することから成る有害物質還元処理方法。

IPC (11件)：

B01D 53/70 , A62D 3/00 , B01D 53/34 ZAB , B01J 19/08 , B01J 35/02 , B09C 1/02 , B09C 1/08 , C07B 35/06 , F01N 3/02 301 , F01N 3/08 , F23J 15/00

FI (10件)：

A62D 3/00 , B01J 19/08 C , B01J 35/02 J , C07B 35/06 , F01N 3/02 301 F , F01N 3/08 C , B01D 53/34 134 E , B01D 53/34 ZAB , B09B 3/00 304 K , F23J 15/00 Z

Fターム (43件)：

2E191BA13 , 2E191BA15 , 2E191BD13 , 2E191BD18 , 3G090BA08 , 3G091AB14 , 3G091BA00 , 3K070DA01 , 3K070DA05 , 3K070DA21 , 4D002AA21 , 4D002BA06 , 4D002BA07 , 4D002BA09 , 4D002CA20 , 4D004AA41 , 4D004AB06 , 4D004AB07 , 4D004CA43 , 4D004CB46 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069CC33 , 4G069DA06 , 4G069EA12 , 4G075AA03 , 4G075BA01 , 4G075BA06 , 4G075BD12 , 4G075CA15 , 4G075CA33 , 4G075CA47 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4H006AA04 , 4H006AA05 , 4H006AC13 , 4H006BD84 , 4H006BE20

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