特許
J-GLOBAL ID：200903012198368699
レーザプラズマX線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-038113
公開番号（公開出願番号）：特開平8-236292
出願日： 1995年02月27日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：
【要約】【目的】レーザプラズマX線発生装置で発生するX線の強度を増加させる。【構成】レーザ11のレーザ光12を集光鏡13によって集光し、ターゲット14表面に照射する。ターゲット14にプラズマが発生する。ターゲット14近くに設けられた磁場及び電場発生手段(15、18、19)によって磁場、電場が発生し、プラズマ中の電子は直進せず、ターゲット14近くに閉じ込められ、螺旋運動をおこなう。【効果】電子がターゲット14近くに閉じ込められるため、電子の飛行距離が長くなり、X線の共同が増加し、応用装置のスループットが向上する。
請求項（抜粋）：
レーザ光を収束させてターゲットに入射し、X線を発生させるレーザプラズマX線発生装置において、上記ターゲット部分に発生したプラズマ中の電子をターゲット近傍に閉じ込める電界及び磁場形成手段を設けたことを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。
IPC (6件)：
H05G 2/00
, G21K 5/02
, G21K 7/00
, H01L 21/027
, H01S 4/00
, H05H 1/24
H05G 1/00 K
, G21K 5/02 X
, G21K 7/00
, H01S 4/00
, H05H 1/24
, H01L 21/30 531 S
