特許
J-GLOBAL ID：200903012202552475

排ガス処理触媒、その製造方法および排ガス処理方法

発明者：
熊 涼慈

熊 涼慈 について

, 
小林 基伸

小林 基伸 について

, 
正木 信之

正木 信之 について


出願人/特許権者：
株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-079089
公開番号（公開出願番号）：特開2006-255641
出願日： 2005年03月18日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】 窒素酸化物や有機ハロゲン化合物を含む排ガスの処理性能に優れた排ガス処理触媒を提供する。【解決手段】 本願発明は、バナジウム酸化物およびチタン系酸化物を含有する触媒であって、バナジウムの価数が4.1以上4.9未満であり、かつBET比表面積が40m2/g以上であることを特徴とする排ガス処理触媒であり、当該触媒はチタン系酸化物にバナジウム化合物を加えた後に還元処理により調製されることが好ましい。更に当該排ガス処理触媒を用いて、排ガス中の有害物質を分解除去することができるものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
バナジウム酸化物およびチタン系酸化物を含有する触媒であって、バナジウムの価数が4.1以上4.9未満であり、かつBET比表面積が40m2/g以上であることを特徴とする排ガス処理触媒。
IPC (7件)：
B01J 23/22 ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/28 ,  B01J 23/30 ,  B01J 35/10 ,  B01J 37/16 ,  B01D 53/94
FI (7件)：
B01J23/22 A ,  B01J23/26 A ,  B01J23/28 A ,  B01J23/30 M ,  B01J35/10 301J ,  B01J37/16 ,  B01D53/36 102C
Fターム (71件)：
4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048AC04 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA08X ,  4D048BA23X ,  4D048BA25X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4D048DA03 ,  4D048DA20 ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BA20A ,  4G169BA20B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC16A ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC54A ,  4G169BC54B ,  4G169BC58A ,  4G169BC58B ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA10 ,  4G169CA13 ,  4G169DA06 ,  4G169EA19 ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169EC27 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FA08 ,  4G169FB05 ,  4G169FB09 ,  4G169FB27 ,  4G169FB30 ,  4G169FB31 ,  4G169FB44 ,  4G169FB67 ,  4G169FC07
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM