特許
J-GLOBAL ID：200903012209956768
鉛無含有半田めっき浴およびそれにより得られた半田めっき皮膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-335987
公開番号（公開出願番号）：特開平9-157887
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：
【要約】【課題】 プリント配線板におけるの端子部等の実装作業にZn-Sn系鉛無含有半田合金を用いる際に半田ぬれ性、接続の信頼性を向上し得る下地皮膜を形成することができるZn-Sn系鉛無含有半田合金と近似した組成を有する鉛無含有の半田めっき浴を提供し、同時にこの浴を用いて得られる鉛無含有の半田合金の下地皮膜として好適な半田皮膜を得るものであり、これにより人体に有害で環境問題を引き起こす鉛を含まない皮膜を形成し、プリント配線板における端子部等の実装作業を容易化するとともに信頼性のある半田付けを行なわんとするものである。【解決手段】 ピロリン酸錫:5〜40g/l、ピロリン酸亜鉛:1〜10g/l、ピロリン酸カリウム:40〜150g/l、過酸化水素水:4〜20ml/l、ポリエチレンオキシド:0.1〜1g/lを含有してなる鉛無含有半田めっき浴。およびこの鉛無含有半田めっき浴を用いて形成された半田めっき皮膜であり、亜鉛:5〜40重量%、錫:95〜60重量%の組成を有する、Zn-Sn系無鉛半田合金処理に好適な半田めっき皮膜。
請求項（抜粋）：
ピロリン酸錫:5〜40g/l、ピロリン酸亜鉛:1〜10g/l、ピロリン酸カリウム:40〜150g/l、過酸化水素水:4〜20ml/l、ポリエチレンオキシド:0.1〜1g/lを含有してなる鉛無含有半田めっき浴。
IPC (5件)：
C25D 3/60
, B23K 1/20
, C01B 25/42
, C22C 13/00
, H05K 3/24
C25D 3/60
, B23K 1/20 F
, C01B 25/42
, C22C 13/00
, H05K 3/24 B
