特許
J-GLOBAL ID:200903012210872390

射出成形における不活性ガス供給方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-177522
公開番号(公開出願番号):特開平7-009489
出願日: 1993年06月25日
公開日(公表日): 1995年01月13日
要約:
【要約】【目的】加熱筒の後部と材料供給部を気密にするとともに、不活性ガスの供給の仕方を変えることで成形開始時の成形材料の酸化も防止できるようにする。【構成】加熱筒1の材料供給部の供給口7の後壁に不活性ガスの供給孔8をスクリュ前方に下向きに斜設する。加熱筒1の後部及び材料供給部を気密に構成する。その両方により加熱筒1内に供給された不活性ガスの加熱筒先端側への供給を可能とする。
請求項(抜粋):
スクリュを内装した加熱筒の材料供給部から加熱筒内に成形材料の酸化を防止する不活性ガスを供給するにあたり、上記材料供給部の供給口の後壁に不活性ガスの供給孔をスクリュ前方に下向きに斜設するとともに、加熱筒の後部及び材料供給部を気密に構成して、加熱筒内に供給された不活性ガスの加熱筒先端側への供給を可能としてなることを特徴とする射出成形における不活性ガス供給方法。

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