特許

J-GLOBAL ID：200903012232834424

化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物

発明者： 新田 和行 ,  加藤 哲也 ,  青木 知三郎
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 棚井 澄雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-238039
公開番号（公開出願番号）：特開2003-050460
出願日： 2001年08月06日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 低価格であって、解像性及び感度に優れ、膜減りが小さい等の優れた特性を有する化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの提供。【解決手段】 次の成分(A)〜(C)、(A)2.38重量%テトラメチルアンモニムヒドロキシド水溶液に対するアルカリ溶解性が375〜1000Å/秒の範囲であるノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)架橋性ポリビニルエーテル化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物;並びにガラス角基板上にかかる化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物を用いて塗布膜を設け、乾燥後、マスクパターンを介して露光し、露光後加熱処理し、次いでアルカリ現像する工程により得られる液晶素子用レジストパターン。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)〜(C)、(A)2.38重量%テトラメチルアンモニムヒドロキシド水溶液に対するアルカリ溶解性が375〜1000Å/秒の範囲であるノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)架橋性ポリビニルエーテル化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB29 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17