特許

J-GLOBAL ID：200903012240425630

フォトマスク及びその製造方法

発明者： 横山寿文 ,  松本真佐美 ,  宮下裕之
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256559
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104815
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 位相シフトフォトマスクの位相差に起因する歩留まりを向上させる。【解決手段】 フォトマスクをパターニング後、フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気によりフォトマスクのガラス部1又は位相シフター部をエッチングする。フォトマスクとしては、ハーフトーン型位相シフトフォトマスク、レベンソンタイプ位相シフトフォトマスクが可能である。

請求項（抜粋）：

フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気により、フォトマスクのガラス部又は位相シフター部がエッチングされていることを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/302 P