投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-090350
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264428
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】マスク(レチクル)上に描画されているパターンの像を忠実に感光基板上に形成する。【構成】距離センサ16により、レチクルステージ14上に保持されたレチクルRのパターン面までの距離(センサ表面からの距離)がセンサの長手方向に沿って検出され、演算部20では、この距離センサの各計測点の距離に基づいてレチクルRの撓み曲線の方程式を2次あるいは4次の回帰曲線で近似して求め、これに基づいてレチクルR上のパターンに生じる変形量を算出する。そして、倍率補正コントローラ22によってこの変形量が対応する補正値に換算され、投影レンズPLの結像特性が補正される。

請求項（抜粋）：

マスクステージ上に保持されたマスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に転写する投影露光装置であって、前記マスクステージに保持されたマスクの面内の所定方向に沿った撓みに関連する物理量を検出する検出手段と;前記検出手段で検出された物理量に基づいて前記所定方向に沿って前記マスクのパターンに生じる変形量を算出する演算手段と;前記演算手段の演算結果に基づいて前記投影光学系の結像特性を補正する補正手段とを有する投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 A , G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (6件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-213459 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-195315 出願人：株式会社ニコン
特開平4-130711

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