特許
J-GLOBAL ID：200903012243369928
アクティブマトリクス基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-029383
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242468
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 製造プロセスの簡略化と良品率の向上を図れるようにする。【構成】 絵素電極1を覆うゲート絶縁膜7の上に、薄膜トランジスタ2とソースバスライン4とが形成されているので、ゲート絶縁膜7を挟んで絵素電極1とソースバスライン4とが分離して存在する。よって、絵素電極1とソースバスライン4との間でリークすることがない。
請求項（抜粋）：
基板上に複数の絵素電極がマトリクス状に配設されていると共にゲートバスラインとソースバスラインとが相互に交差して形成され、ゲートバスラインに薄膜トランジスタのゲート電極が、ソースバスラインに薄膜トランジスタのソース電極が、絵素電極に薄膜トランジスタのドレイン電極が接続されているアクティブマトリクス基板において、該基板上に絵素電極とゲートバスラインとが電気的に絶縁して形成され、絵素電極及びゲートバスラインを覆って該基板上にゲート絶縁膜が形成され、更に該ゲート絶縁膜の上に、ゲートバスラインから分岐されたゲート電極を一部に含んで構成される薄膜トランジスタとソースバスラインとが形成されていると共に、該薄膜トランジスタのドレイン電極が該ゲート絶縁膜に設けたコンタクトホールを介して絵素電極に電気的に接続され、該薄膜トランジスタのソース電極がソースバスラインから分岐して形成されているアクティブマトリクス基板。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, H01L 29/784
