特許

J-GLOBAL ID：200903012254940716

半導体処理装置

発明者： 篠崎 弘行 ,  塚本 究 ,  堀江 邦明 ,  福永 由紀夫
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111909
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306974
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 処理室の大気開放を必要とせず、処理室を清浄雰囲気に維持したまま基板周辺の治具類の搬出入を行うことができ、しかも装置としてコンパクト化を図った半導体処理装置を提供する。【解決手段】 密閉雰囲気中で所定の処理を行うための処理室16a,16bと、前記処理室内で用いられる治具類24を前記処理室と半導体処理装置外部との間で搬出入する移送装置12とを備え、少なくとも前記処理室から及び/又は処理室への前記治具類の搬出入を前記処理室を清浄ガス雰囲気下において行うようになっている。

請求項（抜粋）：

密閉雰囲気中で所定の処理を行うための処理室と、前記処理室内で用いられる治具類を前記処理室と半導体処理装置外部との間で搬出入する移送装置とを備え、少なくとも前記処理室から及び/又は処理室への前記治具類の搬出入を前記処理室を清浄ガス雰囲気下において行うようになっていることを特徴とする半導体処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B01J 3/02 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/44

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  B01J 3/02 P ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/44 F

Fターム (26件)：

4K029BD01 ,  4K029DA09 ,  4K029KA09 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030GA11 ,  4K030KA28 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA43 ,  5F031MA04 ,  5F031MA09 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA08 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031PA18 ,  5F031PA26