基板の洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：桜井隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350727
公開番号（公開出願番号）：特開平5-161883
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：

【要約】【目的】洗浄工程が短く短時間に洗浄でき、かつ洗浄能力を向上できる基板の洗浄装置を提供する。【構成】複数枚の被洗浄基板を一定間隔で整列して収容したラックを配置する浸漬式洗浄槽と、前記槽内に配置したラックを基板の一定間隔ごとに断続的に槽内を移動させる移動機構と、前記槽の下部側から前記基板を上方へ押し上げる押し上げ機構と、前記槽の上部に配置され押し上げられた基板の表面を洗浄するブラシ機構とを備える。

請求項（抜粋）：

複数枚の被洗浄基板を一定間隔で整列して収容したラックを配置する浸漬式洗浄槽と、前記槽内に配置したラックを基板の一定間隔ごとに断続的に槽内を移動させる移動機構と、前記槽の下部側から前記基板を上方へ押し上げる押し上げ機構と、前記槽の上部に配置され押し上げられた基板の表面を洗浄するブラシ機構とを備えたことを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 7/04 , G02F 1/13 101

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭60-168579
特開昭60-168579

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