特許
J-GLOBAL ID：200903012257982371
パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-048858
公開番号（公開出願番号）：特開平5-248836
出願日： 1992年03月05日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】パターンの高さを表す二値化信号を生成する際に使用するしきい値を適正化して検査精度の向上を図ることを目的とする。【構成】表面に任意のパターンを形成した基板と、該基板の表面に走査型の光ビームを照射する照射手段と、その反射光ビームを受光し、光軸の変化に追随して相補的に変化する第1の信号(A)及び第2の信号(B)を出力する光検出手段と、第3の信号(A+B)を生成すると共に、第4の信号(A-B)を生成し、且つ、第5の信号((A-B)/(A+B))を生成する信号生成手段と、前記第3の信号に所定のしきい値を適用して前記パターンの有無を表す第1の二値化手段と、前記第5の信号に所定のしきい値を適用して前記パターンの高さを表す第2の二値化手段と、を含むパターン検査装置において、前記第5の信号を平均化する平均化手段と、パターン有りを表示する直前の該平均化手段の出力に基づいて、前記第5の信号に適用するしきい値を設定するしきい値設定手段と、を備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
表面に任意のパターンを形成した基板と、該基板の表面に走査型の光ビームを照射する照射手段と、該基板表面からの反射光ビームを受光し、その光軸の変化に追随して相補的に変化する第1の信号(A)及び第2の信号(B)を出力する光検出手段と、該第1の信号と第2の信号の和に相当する第3の信号(A+B)を生成すると共に、該第1の信号と第2の信号の差に相当する第4の信号(A-B)を生成し、且つ、該第3の信号に対する第4の信号の割合に相当する第5の信号((A-B)/(A+B))を生成する信号生成手段と、前記第3の信号に所定のしきい値を適用して前記パターンの有無を表す第1の二値化信号を生成する第1の二値化手段と、前記第5の信号に所定のしきい値を適用して前記パターンの高さを表す第2の二値化信号を生成する第2の二値化手段と、を含むパターン検査装置において、前記第5の信号を平均化する平均化手段と、前記第1の二値化信号がパターン有りを表示する直前の該平均化手段の出力に基づいて、前記第5の信号に適用するしきい値を設定するしきい値設定手段と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5件)：
G01B 11/24
, G01R 31/02
, G06F 15/62 405
, G06F 15/64 400
, H01L 21/66
