膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174345
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002990
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【目的】誘電率特性、機械強度等に優れた膜形成用組成物を得る。【構成】 (A)シラン化合物が下記一般式(1)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3、R4、R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-で表される基を示し、nは1〜6を、dは0または1を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、(B)潜在性塩基触媒ならびに(C)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(A)シラン化合物が下記一般式(1)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3、R4、R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-で表される基を示し、nは1〜6を、dは0または1を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、(B)潜在性塩基触媒ならびに(C)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (7件)：

C09D183/04 , C09D133/00 , C09D167/00 , C09D169/00 , C09D171/02 , H01L 21/312 , H01L 21/316

FI (7件)：

C09D183/04 , C09D133/00 , C09D167/00 , C09D169/00 , C09D171/02 , H01L 21/312 C , H01L 21/316 H

Fターム (26件)：

4J038CG142 , 4J038DD002 , 4J038DE002 , 4J038DF022 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038JC32 , 4J038KA04 , 4J038KA06 , 4J038NA26 , 4J038PA19 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AC06 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH01 , 5F058AH02 , 5F058BA20 , 5F058BC02 , 5F058BC04 , 5F058BC05 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BJ01 , 5F058BJ02

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