特許

J-GLOBAL ID：200903012279007860

スルホニウム化合物の製造方法

発明者： 山本 良成 ,  河岡 良明
出願人/特許権者： 三新化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-112986
公開番号（公開出願番号）：特開2006-131612
出願日： 2005年04月11日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【構成】4-アシルオキシフェニルアルキルスルフィド化合物と硫酸ジメチルを酢酸エステルを溶媒として反応させててスルホニウム塩を得、これを塩交換してなる4-アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法。第2の構成として、4-ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物とR1OR1で表される酸無水物をジシクロヘキシルアミンの存在下に酢酸エチルを溶媒として反応させてなる4-アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法である。(ここでR1はアシル基またはアルキルスルホニル基である)【効果】 高純度を必要とする、エポキシ硬化開始剤として使用される4-アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を簡便な方法で製造することができる。

請求項（抜粋）：

化1で表される4-ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物とR1OR1で表される酸無水物をジシクロヘキシルアミンの存在下に酢酸エチルを溶媒として反応させることを特徴とする化2で表される4-アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法。 (ここでR1はR-CO-基,R-SO2-基(Rは共通して1もしくはそれ以上のハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4のアルキル基)、R2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲン、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基、R4は、C1〜C4のアルキル基である。XはSbF6,PF6,BF4を示す。)

IPC (1件)：

C07C 381/12

FI (1件)：

C07C381/12

Fターム (4件)：

4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006BB17 ,  4H006TN60

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 公開特許公報平成3年第200761号
  
• 公開特許公報平成8年第188569号
  
• 公開特許公報平成1年第290658号
  
• 公開特許公報平成2年第172967号