特許
J-GLOBAL ID：200903012280442007
アルミナ被覆石英ガラス及びその製造方法並びに半導体製造装置用部品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
赤野 牧子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-305893
公開番号（公開出願番号）：特開平10-139480
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造装置における石英ガラス部材の優れた特性を損なうことなくプラズマ活性化されたフッ素系ガスによる侵食を防止し、長期的安定操作を可能として半導体製造工程の生産性を向上させる。【解決手段】 アルミニウム(Al)と酸素(O)のモル比率(Al:O)が1:1.3〜1.6で、且つ、アモルファスであるアルミナ皮膜にて被覆されてなることを特徴とするアルミナ被覆石英ガラス。前記アルミナ被覆石英ガラスは、酸素ガスを0.05〜10容量%含有するアルゴンガスをスパッタガスとし、ターゲットに高純度アルミナを用いて高周波スパッタコーティング処理して石英ガラス表面にアルミナ皮膜を形成して製造することができる。
請求項（抜粋）：
アルミニウム(Al)と酸素(O)のモル比率(Al:O)が1:1.3〜1.6で、且つ、アモルファスであるアルミナ皮膜にて被覆されてなることを特徴とするアルミナ被覆石英ガラス。
IPC (3件)：
C03C 17/245
, F27D 21/02
, H01L 21/3065
C03C 17/245 A
, F27D 21/02
, H01L 21/302 B
