特許
J-GLOBAL ID：200903012291363710
レーザー光照射装置及びその装置による熱処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-147043
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333871
出願日： 1993年05月25日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 試料の形状に対応して均等に熱処理を行うことのできるレーザー光照射装置とその装置による熱処理方法とを提供する。【構成】 試料6にレーザー光42,43,44を照射して試料6の表面61を加熱するレーザー光照射装置1であって、レーザー光40を発振する発光手段10と、発光手段10で発生したレーザー光40を複数の光路に分光するものでレーザー光40の光路に配置した分光手段21,22と、分光手段21,22で分光したレーザー光42,44を異なる方向から試料6の表面61に照射するもので、それぞれに分光したレーザー光42,44の光路に配置した照射手段31,32とを備えている。
請求項（抜粋）：
試料にレーザー光を照射して当該試料を加熱するレーザー光照射装置であって、レーザー光を発振する発光手段と、前記発光手段で発生したレーザー光を複数の光路に分光するもので、当該レーザー光の光路に配置した分光手段と、前記分光手段で分光したレーザー光を異なる方向から試料の表面に照射するもので、それぞれに分光したレーザー光の光路に配置した照射手段とを備えたことを特徴とするレーザー光照射装置。
IPC (2件)：
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