特許
J-GLOBAL ID:200903012298515346

厚膜形成用ペーストの印刷方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 均
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-337741
公開番号(公開出願番号):特開平11-154784
出願日: 1997年11月20日
公開日(公表日): 1999年06月08日
要約:
【要約】【課題】 ペーストのにじみにより、印刷パターンと目標パターンとの差が生じることを抑制し、ペーストのにじみによるランド間のブリッジや、ツームストーン現象などの問題が発生することを軽減、防止する。【解決手段】 目標パターン1を構成する所定の辺(A,B)について、印刷直後に、辺の両端部を除いた部分で、厚膜形成用ペーストが、辺より後退した位置までだけ印刷されるように、所定の平面形状に厚膜形成用ペーストを印刷する。また、方形の目標パターン1に印刷する場合に、長さALの一対の辺Aと、辺Aより最も後退した位置との間の最大距離(前記辺から略垂直方向への最大距離)AGが(3/100)<(AG/AL)<(20/100),長さBLの他の一対の辺Bと、辺Bより最も後退した位置との間の最大距離(前記辺から略垂直方向への最大距離)BGが(3/100)<(BG/BL)<(20/100)の範囲に入るようにする。
請求項(抜粋):
厚膜形成用ペーストを所定の目標パターンに印刷する場合において、目標パターンを構成する所定の辺について、印刷直後に、前記辺の両端部を除いた部分で、厚膜形成用ペーストが、前記辺より後退した位置までだけ印刷されるように、所定の平面形状に厚膜形成用ペーストを印刷することを特徴とする厚膜形成用ペーストの印刷方法。
IPC (2件):
H05K 3/34 501 ,  H05K 3/34 505
FI (2件):
H05K 3/34 501 E ,  H05K 3/34 505 B
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-373156
  • 特開平2-172292

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