特許
J-GLOBAL ID：200903012300091885

近接場プローブ及び近接場プローブ作成方法

発明者：
鈴木 良政

鈴木 良政 について

, 
富永 淳二

富永 淳二 について

, 
阿刀田 伸史

阿刀田 伸史 について


出願人/特許権者：
工業技術院長

工業技術院長 について

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オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (2件)： 鈴江 武彦 (外1名) ,  鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-232710
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056279
出願日： 1999年08月19日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：
【要約】【課題】本発明は、再現性良く開口を形成すると共に、走査時に開口の変化が生じないようにした近接場プローブ及びその作成方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様によると、近接場顕微鏡または近接場光記録装置に用いられる、先端及び側面が金属または半金属でコートされたプローブであり、上記コートは先端部分において、固相拡散によって形成した開口を有することを特徴とする近接場プローブが提供される。
請求項（抜粋）：
近接場顕微鏡または近接場光記録装置に用いられる、先端及び側面が金属または半金属でコートされたプローブであり、上記コートは先端部分において、固相拡散によって形成した開口を有することを特徴とする近接場プローブ。
IPC (5件)：
G01N 13/14 ,  G01B 11/30 ,  G01N 13/10 ,  G11B 7/135 ,  G11B 21/06
FI (5件)：
G01N 13/14 B ,  G01B 11/30 Z ,  G01N 13/10 G ,  G11B 7/135 A ,  G11B 21/06
Fターム (17件)：
2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB01 ,  2F065CC03 ,  2F065DD00 ,  2F065FF00 ,  2F065PP24 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119DA01 ,  5D119DA05 ,  5D119JA34 ,  5D119JA64 ,  5D119NA05
引用特許：
出願人引用 (3件)

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