特許
J-GLOBAL ID：200903012304858447
レジスト材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-073108
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241332
出願日： 1992年02月26日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【構成】 照射光に対して透過性をもつフッ素系樹脂から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料である。【効果】 ホトリソグラフィー技術により、特に微細パターンの形成を行う際に、ホトレジスト膜内で照射光が基板からの反射光と干渉することに起因するパターン寸法精度の低下を防止しうるので、寸法精度の優れたレジストパターンを形成することができる。
請求項（抜粋）：
照射光に対して透過性をもつフッ素系樹脂から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料。
IPC (4件)：
G03F 7/004 511
, G03F 7/038
, G03F 7/039
, G03F 7/11
