特許

J-GLOBAL ID：200903012315947794

イオン打ち込み装置

発明者： 雨宮 健介 ,  袴田 好美 ,  登木口 克己 ,  作道 訓之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-090734
公開番号（公開出願番号）：特開平5-287525
出願日： 1992年04月10日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【目的】 大電流領域で高エネルギーイオンビームを発生させることにある。【構成】 イオン源1とRFQ加速器3の間に質量分離機能を持ち、且つビームの空間電荷による拡がりを小さくできる収束を持つ磁気四重極レンズ2を配置し、数十ミリアンペアの桁の大電流領域の高エネルギーイオンビームを発生させて、打ち込み室4に設置した処理対象材にイオンビームを打ち込むイオン打ち込み装置。【効果】 磁気四重極レンズによりイオン源から引き出されたイオンビームを最大限に利用し、ビーム輸送中の電流値の減少を最小限に抑えることができるため、大電流領域で、高エネルギーイオンビームを発生させることができる。

請求項（抜粋）：

種々のイオンを含むビームを発生するイオン源と、該イオン源からの種々のイオンを含むビームを質量分離しかつ収束する多重極レンズと、該多重極レンズからのイオンビームを高周波電界により所定のエネルギーレベルまで加速する高周波加速器と、該高周波加速器からのイオンビームを処理の対象となる材料に打ち込むイオン打ち込み室とを備えたことを特徴とするイオン打ち込み装置。

IPC (3件)：

C23C 14/48 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-121656
  
• 特公昭59-008949
  
• 特公昭59-013151
  
• 特開昭62-241248