特許
J-GLOBAL ID:200903012317326754

ガス加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-294499
公開番号(公開出願番号):特開平6-151414
出願日: 1992年11月02日
公開日(公表日): 1994年05月31日
要約:
【要約】【目的】本発明は、高品質の薄膜形成を含む熱処理を信頼性高く実現し得るガス加熱装置を提供することを目的とする。【構成】本発明は、膜形成を含む熱処理に用いる処理用ガス4aを加熱するための輻射光6を発する発熱体3と、前記輻射光6を透過し、かつ前記処理用ガス4aを大気から遮断しながらこの処理用ガス4aの通過領域となるガス加熱管2と、このガス加熱管2のガス通過領域に配置され前記輻射光6を吸収する熱吸収体5とから成るガス加熱装置において、前記処理用ガス4aが前記熱吸収体5によってその流れの向き、もしくは流速が変化し、かつ熱伝導加熱される構成になっている。
請求項(抜粋):
膜形成を含む熱処理に用いる処理用ガスを加熱するための輻射光を発する発熱手段と、前記輻射光を透過し、かつ前記処理用ガスを大気から遮断しながらこの処理用ガスの通過領域となるガス通過手段と、このガス通過手段のガス通過領域に配置され前記輻射光を吸収する熱吸収手段とから成るガス加熱装置において、前記処理用ガスが前記熱吸収手段によってその流れの向き、もしくは流速が変化し、かつ熱伝導加熱される構成になっていることを特徴とするガス加熱装置。

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