特許
J-GLOBAL ID：200903012335277671
同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-172322
公開番号（公開出願番号）：特開2000-008157
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】【課題】同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置において、放出された荷電微小粒子を処理対象物に対して効率良く付着させて均一な厚さの膜を形成する。【解決手段】本発明の蒸着装置1は、基板4される真空処理槽10を有し、この真空処理槽10内に、アノード電極40と蒸着材料43との間に電圧を印加した状態でトリガ電極42と蒸着材料43との間にトリガ放電を発生させてアノード電極40と蒸着材料43との間にアーク放電を誘起させて蒸着材料43を蒸発させる蒸着源3を有している。蒸着源3と基板4との間に、蒸着源4から放出された荷電粒子51の飛行方向を偏向させる偏向手段60が設けられている。
請求項（抜粋）：
処理対象物が配置される真空処理槽と、該真空処理槽内に配設され、アノード電極と蒸着材料との間に電圧を印加した状態でトリガ電極と前記蒸着材料との間にトリガ放電を発生させて前記アノード電極と前記蒸着材料との間にアーク放電を誘起させて前記蒸着材料を蒸発させる蒸着源と、該蒸着源から放出された荷電粒子の飛行方向を偏向させる偏向手段とを備えたことを特徴とする蒸着装置。
Fターム (4件)：
4K029CA01
, 4K029DB08
, 4K029DB17
, 4K029EA07
