特許

J-GLOBAL ID：200903012337407149

ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたレジスト像の製造法

発明者： 鯉渕 滋 ,  橋本 通晰 ,  加藤 孝治
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-019181
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218922
出願日： 1998年01月30日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 高感度で解像度が高いポジ型感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 アルカリ水溶液可溶性樹脂と、活性化学線照射により酸を生じる化合物と、酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解度を増加する酸分解性基を有する物質、及び溶剤としての1分子内に2個のケトン基を有する化合物とを含むポジ型感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ水溶液可溶性樹脂、活性化学線照射により酸を生じる化合物、酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解度を増加する酸分解性基を有する物質及び溶剤としての1分子内に2個のケトン基を有する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R