特許

J-GLOBAL ID：200903012342246200

吸脱着式ガス浄化装置

発明者： 森本 浩文 ,  兵頭 雅夫 ,  田中 信平
出願人/特許権者： 株式会社大氣社
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-011363
公開番号（公開出願番号）：特開平6-218218
出願日： 1993年01月27日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：

【要約】【目的】 高濃度の処理対象ガスであっても、装置の大型化、コストアップを招来することなく長時間連続処理できるようにする。【構成】 通気性を備えた吸着ベルト3を循環経路に沿うように巻きかけて回転移動させる移動手段と、前記循環経路の設定箇所でその吸着ベルト3内を厚さ方向に透過するように処理対象ガスG1を給排する吸着手段と、前記設定箇所とは異なる別の設定箇所で吸着ベルト3内を厚さ方向に透過するように脱着用ガスG2を給排する脱着手段とを設け、前記吸着ベルト3に、その吸着ベルト3の幅方向両端同士の相対接近を阻止する複数のベルト幅規制体3Dを回転移動方向に間隔を隔てて装着する。

請求項（抜粋）：

通気性を備えた吸着ベルト(3)を循環経路に沿うように巻きかけて回転移動させる移動手段と、前記循環経路の設定箇所でその吸着ベルト(3)内を厚さ方向に透過するように処理対象ガス(G1)を給排する吸着手段と、前記設定箇所とは異なる別の設定箇所で吸着ベルト(3)内を厚さ方向に透過するように脱着用ガス(G2)を給排する脱着手段とを設け、前記吸着ベルト(3)に、その吸着ベルト(3)の幅方向両端同士の相対接近を阻止する複数のベルト幅規制体(3D)を回転移動方向に間隔を隔てて装着してある吸脱着式ガス浄化装置。

IPC (4件)：

B01D 53/06 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 117 ,  B01D 53/34

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭51-032482
  
• 特開昭50-147480