特許

J-GLOBAL ID：200903012343335710

測定された位置合わせマークの修正位置を決定するためのコンピュータプログラムと、デバイス製造方法と、該製造方法により製造されるデバイス

発明者： エフェルハルデュス コルネリス モス ,  マウリッツ ファン デル シャール
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-097335
公開番号（公開出願番号）：特開2002-319544
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】 リソグラフィ投影装置内で露光される基板W上の、測定された位置合わせマークPの修正位置を決定するためのコンピュータプログラムを得ることである。【解決手段】 リソグラフィ投影装置内で露光される基板W上の位置合わせマークPの修正位置を決定するためのコンピュータプログラムにおいて、該コンピュータプログラムが、コンピュータシステムで実施される場合に、アルミニウムAl層を被着された前記基板W上の少なくとも1つの位置合わせマークPの位置を測定するために、測定装置を制御する段階と、前記位置合わせマークの測定位置と、アルミニウム層の被着に係わる加工装置のモデルとに基づき、位置合わせマークの修正位置を計算する段階とを実施するように、コンピュータシステムに指示するためのプログラムコード手段を含んでいる。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置内で露光される基板(W)の位置合わせマーク(P)の修正位置を決定するためのコンピュータプログラムにおいて、該コンピュータプログラムが、コンピュータシステムで実施されるさい、次の段階、すなわち、アルミニウム(Al)層を被着された前記基板(W)上の少なくとも1つの位置合わせマーク(P)の位置を測定するために測定装置を制御する段階と、測定された位置合わせマーク位置と、アルミニウム層の被着に係わる加工装置のモデルとに基づいて位置合わせマークの修正位置を計算する段階とを実施するよう、コンピュータシステムに指示するプログラムコード手段を含んでいる、コンピュータプログラム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (3件)：

5F046ED01 ,  5F046FA20 ,  5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-065603