特許
J-GLOBAL ID：200903012343972923
投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-334554
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078319
出願日： 1994年12月20日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 色収差の特に2次スペクトルを低減させると共に、レンズ設計上の制約が少ない投影光学系を具備した投影露光装置を提供すること。【構成】 光源手段からの光束をマスクに照射することにより投影光学系を介して前記マスクのパターンを感光基板上へ露光する投影露光装置の投影光学系は、回折光学素子と、石英レンズと、螢石レンズとをそれぞれ少なくとも一つ有しているの。この回折光学素子は正のパワーを有し、石英レンズレンズは負のパワーを有し、螢石レンズは正のパワーを有するもの。更に、Ar-Fレーザを光源とするもの。
請求項（抜粋）：
光源手段からの光束をマスクに照射することにより、投影光学系を介して前記マスクのパターンを感光基板上へ露光する投影露光装置において、前記投影光学系は、回折光学素子と、石英レンズと、螢石レンズとをそれぞれ少なくとも一つ有していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 13/24
, G03F 7/20 521
