特許
J-GLOBAL ID：200903012359994838
光路長および焦点を同時に走査する干渉光学システムおよび方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-513695
公開番号（公開出願番号）：特表2005-530147
出願日： 2003年06月17日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
種々の態様において、本発明は、光学測定面を合焦状態に維持(即ち、検出器と一致する光測定表面の画像を維持)しつつ、干渉測定システムにおいて撮像光学素子の焦点深度よりも大きな距離にわたって光学測定面を走査することができる走査干渉計測システムおよび方法を特徴とする。これを達成するには、例えば、基準ミラー(132)およびカメラ(164)を、同時に異なる変位量だけ移動させる。変位の比率は、撮像システムの倍率によって決定される。光学測定面とは、干渉計における検査光の経路内にある理論的検査面のことであり、検査光を反射して、検査光と基準光との間に光路長差(OPD)を生じさせる。光路長差は、検出器全体としての定数に等しい。
請求項（抜粋）：
方法であって、
検査光および基準光が共通光源から生成され、検査面から反射した検査光を撮像し、カメラ上において基準光と干渉させ、干渉パターンを形成すること、前記検査光および基準光の光路が、前記検査光を反射して、前記カメラ上において前記検査光と前記基準光との間に一定の光路長差を生じさせるようなる理論的検査面に対応する光学測定面が規定され、
前記光学測定面を前記検査面に対して走査すること、
前記光学測定面の走査の間、前記カメラの位置を、当該カメラから最も近い前記光学測定面の画像に対して調節すること、
を備える、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
2F064AA09
, 2F064EE02
, 2F064FF03
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG52
, 2F064HH03
, 2F064JJ03
, 2F064JJ04
, 2F065AA51
, 2F065FF52
, 2F065GG02
, 2F065GG07
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065LL12
, 2F065LL46
, 2F065LL59
, 2F065PP02
