特許
J-GLOBAL ID:200903012362292402
重ね合わせ精度測定マークおよび重ね合わせ精度測定方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-037539
公開番号(公開出願番号):特開2000-235947
出願日: 1999年02月16日
公開日(公表日): 2000年08月29日
要約:
【要約】【課題】第一の回路パターンの上部に第二の回路パターンを形成する際の重ね合わせ精度測定誤差を低減すること。【解決手段】下層パターン1および上層パターン2を、それぞれ複数の幅の異なるパターン1a〜1c、2a〜2bにより構成する。複数のパターンの幅のうち最大幅をW1、最小幅をW2としたとき、W1≧2W2とする。
請求項(抜粋):
第一の回路パターンの上部に第二の回路パターンを形成する際の重ね合わせ精度を測定するために用いられる重ね合わせ精度測定マークであって、第一の回路パターンと同じ層の所定箇所に形成された線状またはフレーム形状の下層パターンと、第二の回路パターンと同じ層の所定箇所に形成された線状またはフレーム形状の上層パターンとを備え、前記下層パターンが複数の幅の異なるパターンからなることを特徴とする重ね合わせ精度測定マーク。
IPC (2件):
FI (4件):
H01L 21/30 502 M
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 522 Z
Fターム (6件):
5F046EA03
, 5F046EA09
, 5F046EA12
, 5F046EB01
, 5F046EC05
, 5F046FC04
引用特許:
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