特許

J-GLOBAL ID：200903012376941080

新規チアベンダゾールフッ素シラン誘導体及びその製造方法並びにそれを用いる表面処理剤

発明者： 熊谷 正志 ,  土田 克之 ,  森 英之
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンエナジー
代理人 (1件)： 小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-223636
公開番号（公開出願番号）：特開平9-067383
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】【課題】 有機、無機材料の表面に対して撥水、撥油、潤滑、防錆性、抗菌性を付与する新規物質及びそれを含む表面処理剤の提供。【解決手段】 特定構造を有し、F,Siを有するチアベンダゾールフッ素シラン誘導体、及びそれを有効成分とする表面処理剤。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される新規チアベンダゾールフッ素シラン誘導体。【化1】〔式中、R1は下記一般式(2)で表わされる基を示し、下記一般式(2)中のR3はフッ素又はトリフルオロメチル基を示し、nは1〜15の整数である。又、式中R2は下記一般式(3)で表わされる基を示し、下記一般式(3)中のR4及びR5は炭素数1〜4のアルキル基を示し、mは0〜3の整数である。〕【化2】

IPC (7件)：

C07F 7/18 ,  A01N 55/00 ,  C07D417/04 235 ,  C09K 3/18 104 ,  C09K 15/32 ,  C10M105/76 ,  C23C 22/00

FI (7件)：

C07F 7/18 V ,  A01N 55/00 B ,  C07D417/04 235 ,  C09K 3/18 104 ,  C09K 15/32 B ,  C10M105/76 ,  C23C 22/00 Z