固体撮像装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302891
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】高集積化を可能にする。【構成】一導電型の半導体基板1に埋め込みチャネルとなる第1の不純物領域4を形成する工程と、第1の不純物領域を覆うように半導体基板上に転送電極5を形成する工程と、この転送電極をマスクにして半導体基板に第2の不純物領域8を形成する工程と、を備えていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

一導電型の半導体基板に埋め込みチャネルとなる第1の不純物領域を形成する工程と、前記第1の不純物領域を覆うように前記半導体基板上に転送電極を形成する工程と、この転送電極をマスクにして前記半導体基板に第2の不純物領域を形成する工程と、を備えていることを特徴とする固体撮像装置の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-201478
特開昭61-242066
特開平3-201478

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