特許

J-GLOBAL ID：200903012384168985

ガスハイドレートの生成制御剤およびガスハイドレートの生成制御方法

発明者： 遠山 昌之 ,  大上 暢子
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-223532
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139966
出願日： 2000年07月25日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】 ガスハイドレートの生成を阻害する働きと、ガスハイドレートを安定化させる働きを併せ持つガスハイドレートの生成制御剤、およびガスハイドレートの生成制御方法を提供する。【解決手段】 特定のモノマー群の中から選ばれる少なくとも2種のモノマーを共重合して得られる高分子化合物を含んでなるガスハイドレートの生成制御剤。

請求項（抜粋）：

式(1)、(2)および(3)で表わされるモノマー群の中から選ばれる少なくとも2種のモノマーを共重合して得られる高分子化合物を含んでなるガスハイドレートの生成制御剤。【化1】【化2】【化3】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7はそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1〜3の炭化水素基、nは1〜3の整数、mは1〜3の整数を表す。)

IPC (5件)：

C10L 3/06 ,  C07B 63/02 ,  C08F220/28 ,  C08F220/34 ,  C08F220/54

FI (5件)：

C07B 63/02 B ,  C08F220/28 ,  C08F220/34 ,  C08F220/54 ,  C10L 3/00 A

Fターム (17件)：

4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC93 ,  4H006AD16 ,  4H006BA18 ,  4H006BA50 ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09R ,  4J100AM15P ,  4J100AM17P ,  4J100AM19P ,  4J100BA30Q ,  4J100BA31Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA28 ,  4J100DA36 ,  4J100JA15