特許

J-GLOBAL ID：200903012397651375

基板洗浄方法及び装置

発明者： 中村 次雄 ,  山越 潤一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-202526
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017457
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】 基板表面に付着した粒子をより確実に効率良く除去する。【解決手段】 除電室16と排気室18とを相互隔離し、その順に基板Pを搬送ローラ20で搬送する。除電室16では基板Pの表面にイオンを供給してその除電を行う。排気室18内では排気ダクト24からの排気によって基板Pの表面に付着している粒子を吸引除去する。さらに好ましくは、エアナイフ30からのエアの吹き付けによって基板P上の粒子を積極的に吹き飛ばす。

請求項（抜粋）：

基板表面にイオンを供給して当該表面を除電した後、その除電を行った個所から隔離された排気室内に前記基板を導入し、この排気室内の排気によって前記基板表面の粒子を吸引除去することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (11件)：

H01L 21/304 646 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  B05B 1/00 BBU ,  B05D 3/04 ,  B08B 5/00 ,  B08B 7/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (11件)：

H01L 21/304 646 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 645 A ,  H01L 21/304 648 B ,  H01L 21/304 648 L ,  B05B 1/00 BBU Z ,  B05D 3/04 Z ,  B08B 5/00 A ,  B08B 7/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (29件)：

2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  3B116AA01 ,  3B116AB13 ,  3B116BB21 ,  3B116BB71 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  3B116CD41 ,  4D075BB57X ,  4D075BB65X ,  4D075BB81X ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4F033AA04 ,  4F033BA01 ,  4F033CA01 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01