特許

J-GLOBAL ID：200903012408180396

フォトマスクおよびその製造方法

発明者： 藤田 絵里 ,  吉田 安子 ,  森 ちえみ ,  吉住 圭一 ,  福田 和司 ,  朝山 匡一郎 ,  吉田 満彦 ,  池田 修二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社 ,  日立北海セミコンダクタ株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-031046
公開番号（公開出願番号）：特開平6-250382
出願日： 1993年02月22日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 ウエハに転写されたパターンにゲート細りが発生していないフォトマスクを提供する。【構成】 フォトマスク1に形成されたゲートパターン2の、フィールド絶縁膜の端部との交差部分2aのゲート幅を他の部分のゲート幅に比べて広くする。

請求項（抜粋）：

ゲートのマスクパターンであって、フィールド絶縁膜端部との交差部分のゲート幅が他の部分のゲート幅に比べて広くされていることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 防球ネツト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-296268   出願人：東洋紡績株式会社
• 特開平3-045766