特許
J-GLOBAL ID：200903012425391376
パターン位置計測装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-161491
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334311
出願日： 1995年06月05日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】 装置の校正を迅速且つ高精度に行うことのできるパターン位置計測装置を提供すること。【構成】 被検物である基板の表面に形成されたパターンの位置を計測するための装置において、前記基板を支持し且つ前記基板表面とほぼ平行な所定面内において二次元的に移動可能なステージ手段と、前記ステージ手段上に載置された前記基板のパターンを検出するためのパターン検出手段と、前記所定面内において互いに直交する第1方向および第2方向に沿って前記ステージ手段の移動量を測定するための移動量測定手段とを備え、前記移動量測定手段の校正のために、前記ステージ手段上には少なくとも2つの基準マークが形成されている。
請求項（抜粋）：
被検物である基板の表面に形成されたパターンの位置を計測するための装置において、前記基板を支持し且つ前記基板表面とほぼ平行な所定面内において二次元的に移動可能なステージ手段と、前記ステージ手段上に載置された前記基板のパターンを検出するためのパターン検出手段と、前記所定面内において互いに直交する第1方向および第2方向に沿って前記ステージ手段の移動量を測定するための移動量測定手段とを備え、前記移動量測定手段の校正のために、前記ステージ手段上には少なくとも2つの基準マークが形成されていることを特徴とするパターン位置計測装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G01B 11/00 A
, G01B 11/00 F
, G01B 11/00 G
, G01B 21/00 D
