特許
J-GLOBAL ID：200903012427608240
電子部品の製造方法及び薄膜の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-045591
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237623
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 金属薄膜と絶縁性薄膜が積層された電子部品において、特に、パターニング部分の安定化を図ること。【解決手段】 パターニング材料を付与した後に金属薄膜を形成し、残ったパターニング材料を除去した後に絶縁性薄膜を形成することでパターニング材料を内包せずに積層する。
請求項（抜粋）：
少なくとも金属薄膜と絶縁性薄膜を積層してなる電子部品の製造方法において前記金属薄膜の形成に先立ってパターニング材料を付与した後に前記金属薄膜を形成し、前記金属薄膜の形成後に残った前記パターニング材料を除去した後に前記絶縁性薄膜を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
引用特許：
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