特許
J-GLOBAL ID:200903012440891423
爪の発育を促進する化粧ネイルケア組成物へのジアルキルスルホンの使用
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-425852
公開番号(公開出願番号):特開2004-203886
出願日: 2003年12月22日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】本発明は、爪の発育を促進もしくは活性化し、かつ、爪の発育速度を上昇させるための、ネイルエナメルなどのネイルケア組成物へのジアルキルスルホンの使用、および詳細にはメチルスルホニルメタンの使用に関する。【解決手段】爪の発育を促進するために、爪に塗布する化粧ネイルケア組成物に、少なくとも1つの式(I): R1-SO2-R2 (I)(式中、R1およびR2は、同一または異なっている、炭素原子1から4個の直鎖もしくは分枝アルキル基を表す)のジアルキルスルホンを使用すること。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
爪の発育を促進するための、爪に塗布する化粧ネイルケア組成物への、少なくとも1つの式(I):
R1-SO2-R2 (I)
(式中、R1およびR2は、同一であり、または異なっており、炭素原子1から4個の直鎖もしくは分枝アルキル基を表す)
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (36件):
4C083AB051
, 4C083AB052
, 4C083AC011
, 4C083AC101
, 4C083AC102
, 4C083AC121
, 4C083AC171
, 4C083AC172
, 4C083AC211
, 4C083AC351
, 4C083AC352
, 4C083AC372
, 4C083AC482
, 4C083AC641
, 4C083AC712
, 4C083AC761
, 4C083AC762
, 4C083AC852
, 4C083AD011
, 4C083AD071
, 4C083AD072
, 4C083AD091
, 4C083AD112
, 4C083AD261
, 4C083AD262
, 4C083AD411
, 4C083AD611
, 4C083BB01
, 4C083BB21
, 4C083BB46
, 4C083BB47
, 4C083CC28
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD28
, 4C083EE12
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
米国特許A4296130号
-
欧州特許A0200526号
-
米国特許A5785959号
審査官引用 (5件)
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