特許
J-GLOBAL ID：200903012445545248

光断層イメージング装置

発明者：
安島 弘美

安島 弘美 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


代理人 (1件)： 塩谷 隆嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-347356
公開番号（公開出願番号）：特開2007-151631
出願日： 2005年11月30日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】試料照射レンズ周りを大型化することなく到達深度を向上させ、光断層イメージング装置を、内視鏡などの小型機器に適用できるようにする。【解決手段】中心波長の異なる複数の低コヒーレント光源10A,10Bを備え、かつ、複数の低コヒーレント光源10A,10Bからの光を被測定部Sに照射したときの反射光に基づいて、被測定部Sの断層画像を得る光断層イメージグ装置1において、複数の複数の低コヒーレント光源10A,10Bとして、被測定部Sにおける深度成分の浅い断層画像を作成するための短波長の光源10Aと、被測定部Sにおける深度成分の深い断層画像を作成するための長波長の光源10Bと、を使用する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
中心波長の異なる複数の低コヒーレント光を出射可能な光源系を備え、かつ、 前記複数の低コヒーレント光を被測定部に照射したときの反射光に基づいて、前記被測定部の断層画像を得る光断層イメージング装置であって、 前記光源系は、前記被測定部における深度成分の浅い断層画像を作成するための短波長の低コヒーレンス光と、前記被測定部における深度成分の深い断層画像を作成するための長波長の低コヒーレンス光と、を出射できるように構成されていることを特徴とする光断層イメージング装置。
IPC (5件)：
A61B 1/00 ,  G01N 21/17 ,  G01B 11/24 ,  G01B 9/02 ,  A61B 1/06
FI (6件)：
A61B1/00 300Y ,  G01N21/17 625 ,  G01B11/24 D ,  G01B9/02 ,  A61B1/00 300D ,  A61B1/06 B
Fターム (63件)：
2F064AA01 ,  2F064AA11 ,  2F064EE01 ,  2F064FF03 ,  2F064FF06 ,  2F064FF07 ,  2F064GG02 ,  2F064GG03 ,  2F064GG06 ,  2F064GG12 ,  2F064GG24 ,  2F064GG44 ,  2F064GG47 ,  2F064GG52 ,  2F064GG64 ,  2F064HH01 ,  2F064HH05 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA04 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065CC16 ,  2F065FF04 ,  2F065FF51 ,  2F065GG07 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065MM14 ,  2F065MM24 ,  2F065MM28 ,  2F065NN01 ,  2F065PP04 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13 ,  2F065UU07 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  4C061BB06 ,  4C061CC06 ,  4C061FF40 ,  4C061FF47 ,  4C061HH51 ,  4C061NN01 ,  4C061QQ07 ,  4C061RR04
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特公平6-35946号公報
  • 光断層イメージング装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-319850   出願人：オリンパス光学工業株式会社

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