特許
J-GLOBAL ID:200903012449248884
セラミック基板の穿孔方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-222437
公開番号(公開出願番号):特開2004-058118
出願日: 2002年07月31日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】セラミック基板に上下の孔径差をより小さく且つ、安定したテーパを穿孔出きる方法を提供する。【解決手段】RF励起方式のCO2レーザーを用いるとともに、レーザー発振条件を、パワー密度15〜60W、パルス周期1000μsec〜4000μsec、パルスDUTY5%〜20%としてセラミック基板にレーザー光を照射する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
セラミック基板にレーザー加工を用いて穿孔するための方法であって、RF励起方式のCO2レーザーを用いるとともに、レーザー発振条件を、パワー密度15W〜60W、パルス周期1000μsec〜4000μsec、パルスDUTY5%〜20%としてレーザー光を照射することを特徴とするセラミック基板の穿孔方法。
IPC (5件):
B23K26/00
, B23K26/04
, B28D1/14
, C04B41/91
, H05K3/00
FI (6件):
B23K26/00 330
, B23K26/00 N
, B23K26/04 C
, B28D1/14
, C04B41/91 E
, H05K3/00 N
Fターム (10件):
3C069AA04
, 3C069BA08
, 3C069CA03
, 3C069EA04
, 4E068AF01
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068CA11
, 4E068DA11
, 4E068DB12
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