特許

J-GLOBAL ID：200903012460491529

感光性高分子化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物

発明者： 崔 相 俊 ,  朴 春 根 ,  高 永 範
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-208947
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083076
出願日： 1997年08月04日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 化学式(A)で示される感光性高分子化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下記の化学式(A)で表される感光性高分子化合物:【化1】ただし、式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は炭素数6〜20の脂環式炭化水素基、R3 はt-ブチル基又はテトラヒドロピラニル基であり、m/(n+m)=0.1〜0.9である。これによれば、93nm領域で透明であり、食刻工程に対する耐性に優れている上に、良好な接着性でリフティング現象を減らし、製造し易いフォトレジストを確保し得る。

請求項（抜粋）：

下記の化学式(A)で示される感光性高分子化合物:【化1】ただし、式中、R1 は水素又はメチル基で、R2 は炭素数6〜20の脂環式炭化水素基で、R3 はt-ブチル基又はテトラヒドロピラニル基であり、m/(n+m)=0.1〜0.9である。

IPC (5件)：

G03F 7/033 ,  C08F220/26 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/033 ,  C08F220/26 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R