特許
J-GLOBAL ID：200903012460632157
マイクロ流体装置の新規な材料として使用するための光硬化性ペルフルオロポリエーテル
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石川 徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-527164
公開番号（公開出願番号）：特表2007-522433
出願日： 2004年09月23日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
耐溶媒性のあるマイクロ流体装置を作製する材料として、官能化された光硬化性ペルフルオロポリエーテルが用いられる。それらの耐溶媒性のあるマイクロ流体装置を用いて、有機溶媒などの少量の流体の流れを制御し、他のポリマー系マイクロ流体装置では追随できないマイクロスケールの化学反応を行うことができる。【選択図】図1A〜1C
請求項（抜粋）：
光硬化ペルフルオロポリエーテルのパターン層を形成する方法であって、
(a)パターン表面を含む基板を提供するステップと、
(b)ペルフルオロポリエーテル前駆体を前記基板の前記パターン表面に接触させるステップと、
(c)前記ペルフルオロポリエーテル前駆体を光硬化して、光硬化ペルフルオロポリエーテルのパターン層を形成するステップとを含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (25件)：
2G054AA06
, 2G054AB04
, 2G054BB04
, 2G054CA20
, 2G054CA22
, 2G054CA23
, 2G054EA04
, 2G054GA03
, 2G054GB01
, 2G058CC05
, 2G058GA01
, 4F204AA16
, 4F204AA32
, 4F204AA44
, 4F204AB04
, 4F204AC05
, 4F204AF01
, 4F204AG03
, 4F204AG05
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EB11
, 4F204EB29
, 4F204EK17
, 4F204EK18
