特許
J-GLOBAL ID：200903012467489996
アパーチャ交番移相マスクを製造する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-243307
公開番号（公開出願番号）：特開平8-190189
出願日： 1995年09月21日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィー用の移相マスクを製作する改良した方法を得ることである。【解決手段】 本発明の方法は、透明基板上に不透明層(すなわち、クロム)を付着する工程と、不透明層に開口部をエッチングして透明領域のパターンおよび不透明領域のパターンを形成する工程と、位相衝突領域内で近接する透明領域を一緒に接続する工程と、1つおきの透明領域と接続領域に移相領域を形成する工程とを含む。
請求項（抜粋）：
透明な基板の上に不透明な層を付着する工程と、不透明な層を貫通して基板まで開口部のパターンを形成して、透明な領域と不透明な領域を含むマスクパターンを形成する工程と、同相の領域が内部で非常に近接して生ずるような希望の移相マスクパターン内部での位相衝突領域を識別する工程と、マスクパターンの近接する透明領域を位相衝突領域内部で一緒に接続するための接続透明領域を形成する工程と、1つおきの透明領域の内部および接続透明領域の内部で移相領域を形成する工程とを備える、アパーチャ交番移相マスクを製造する方法。
IPC (2件)：
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